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发布时间:2020-08-15 03:22:57
离子束刻蚀机的原理
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利用辉光放电原理将ya气分解为ya离子,大样片离子束刻蚀机,ya离子经过阳极电场的加速对样品表面进行物理轰击,以达到刻蚀的作用。把Ar气充入离子源放电室并使其电离形成等离子体,然后由栅极将离子呈束状引出并加速,具有一定能量的离子束进入工作室,射向固体表面轰击固体表面原子,使材料原子发生溅射,达到刻蚀目的,属纯物理刻蚀。
离子束刻蚀
离子束刻蚀以离子束为刻蚀手段达到刻蚀目的的技术,其分辨率限制于粒子进入基底以及离子能量耗尽过程的路径范围。离子束较小直径约10nm,离子束刻蚀的结构较小可能不会小于10nm。目前聚焦离子束刻蚀的束斑可达100nm以下,较以较快的直写速度进行小于50nm的刻蚀,故而聚焦离子束刻蚀是纳米加工的一种理想方法。此外聚焦离子束技术的另一优点是在计算机控制下的无掩膜注入,甚至无显影刻蚀,直接制造各种纳米器件结构。但是,在离子束加工过程中,大样片离子束刻蚀机品牌,损伤问题比较突出,且离子束加工精度还不容易控制,大样片离子束刻蚀机生产厂家,控制精度也不够高。
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离子束刻蚀机
加速1器从离子源获得的离子束的能量一般从几百电子伏到几万电子伏。因为用高引出电压方式获得较高能量的离子束受到击穿的限制,所以必须使离子在电场和磁场中加速,这类装置叫做加1速器(见粒子加1速器)使用各种加1速器可以使离子获得很高的能量(如几百吉电子伏),也可以使离子减速,以获得能量较低的(如几十电子伏)但流强很高的离子束。
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