磁控溅射镀膜机-创世威纳

磁控溅射镀膜设备技术的特点

(1)离子轰击渗扩更快因为选用低温等离子无心插柳，为渗剂分子和正离子的吸咐和渗人造就了高宽比活性的表层，提升了结晶中缺点的相对密度，比传统式的汽体渗扩技术性速率明显增强。在一样加工工艺标准下，渗层深度1在0.05二以内，比汽体渗扩提升1倍。在较高溫度下，1h就能达lmm厚。

(2)对钢件表层改性材料成效显著，工艺性能高，真空泵加温易清除高溫冶炼厂时融解的汽体，并可根据渗人金属材料更改PCB的机构和构造，使耐磨性能、耐蚀性、强度和断裂韧性等众多特性获得改进。而且因为清理***，使金属材料粗糙度减少，除去不锈钢钝化的残渣和废弃物，改进了金属材料的工艺性能。

(3)加工工艺适应能力强，有利于解决方式繁杂的钢件。传统式的正离子注人技术性的致命性缺点是注人全过程是1个视野全过程，只能曝露在正离子抢口下的钢件表层能够被注人，针对钢件中必须表层改性材料的内表层或管沟表层等，离子束则很难达到，而且一回只有注一人钢件，注人***率低，机器设备繁杂价格昂贵

如需了解更多磁控溅射镀膜机的相关内容，欢迎拨打图片上的***电话！

磁控溅射镀膜机

创世威纳***生产、销售 磁控溅射镀膜机，以下信息由创世威纳为您提供。

目前国内窗膜行业的批发商及终端店很多人都吃过磁控镀银膜氧化的亏，产品卖出后几个月，开始大面积氧化，需要赔偿，甚至还失去了客户。特别是NSN系列在13、14年出的问题特别多，搞得很多人谈磁控膜色变的地步。而在15、16年后，问题得到解决。慢慢地就没多少氧化问题出现了。这也让很多刚接触磁控膜的人以为磁控膜都是镀银的膜，一说磁控膜就问会不会氧化。其实大可不必担心，大部分的侧档都不是银的，请放心使用。且这两年的技术进步，磁控溅射镀膜机，国内各磁控工厂也找到了解决氧化的方法。其实在玻璃镀膜行业，早就解决了氧化问题，我记得早期的low-e玻璃在镀膜后必须在24小时内合成中空，不然就会氧化。当时low-e与中空都是镀膜厂做的，下边玻璃加工厂根本无法介入，而现在镀膜厂只需生产玻璃镀膜原片。且玻璃原片爆露在空气中可达6个月以上，都不会氧化。这样中空玻璃，一些门窗厂，幕墙公司、小规模的玻璃深加工工厂，都可以生产low-e中空玻璃了，加上***政策的支持与引导，大大的加快了low-e玻璃的发展与普及。做窗膜磁控溅射镀膜的应多去看看玻璃行业的low-e镀膜，多些交流。毕竟生产原理是一样的东西，技术是相通的。很多东西是可以套用的，low-e镀膜得到了规模化的发展，技术工艺已非常成熟了。窗膜磁控溅射镀膜终是要与玻璃配套的，如何与玻璃上直接镀膜做差异化发展，才是正道。就目前来说，仅从隔热性能、保温性能上与玻璃对抗，是不可能有成本上优势的。但都是镀膜，如何做差异化，我目前也只是抛砖引玉，只有大家一起开动脑袋了。

镀膜设备原理及工艺

主要溅射方式：

反应溅射是在溅射的惰性气体气氛中，通入一定比例的反应气体，通常用作反应气体的主要是氧气和氮气。

直流溅射(DC Magnetron1 Sputtering)、射频溅射(RF Magnetron1 Sputtering)、脉冲溅射(PulsedMagnetro n1 Sp uttering)和中频溅射(Medium Fre2quency Magnetro2 n Sp uttering)

直流溅射方法用于被溅射材料为导电材料的溅射和反应溅射镀膜中，其工艺设备简单，有较高的溅射速率。

中频交流磁控溅射在单个阴极靶系统中，与脉冲磁控溅射有同样的释放电荷、防止打弧作用。中频交流溅射技术还应用于孪生靶(Twin2Mag)溅射系统中，中频交流孪生靶溅射是将中频交流电源的两个输出端，分别接到闭合磁场非平衡溅射双靶的各自阴极上，因而在双靶上分别获得相位相反的交流电压，一对磁控溅射靶则交替成为阴极和阳极。孪生靶溅射技术大大提高磁控溅射运行的稳定性，可避免被毒化的靶面产生电荷积累，引起靶面电弧打火以及阳极消失的问题，溅射速率高，为化合物薄膜的工业化大规模生产奠定基础。

连续式的磁控溅射生产线 总体上可以分为三个部分: 前处理， 溅射镀膜， 后处理。

期望大家在选购 磁控溅射镀膜机时多一份细心，少一份浮躁，不要错过细节疑问。想要了解更多 磁控溅射镀膜机的相关资讯，欢迎拨打图片上的***电话！！！