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磁控溅射镀膜机

铟锡氧化物( Indium Tin Oxide ,简称ITO) 薄膜是一种用途广泛的透明导电材料,已成熟的应用于电机车挡风玻璃、液晶显示器件、太阳能电池、全息照相和液晶彩色电视等,蓄势待发的应用领域为有机发光二极管显示器(Organic Light-Emitting Diode ,简称OLED) 。从应用角度出发,通常要求ITO 薄膜的成份是In2O3 和SnO2 ,薄膜中铟锡***化合物愈少愈好。靶基距、标准气压的危害靶基距都是危害磁控溅射塑料薄膜薄厚匀称性的关键加工工艺主要参数，塑料薄膜薄厚匀称性在必须范围之内随之靶基距的扩大有提升的发展趋势，无心插柳工作中标准气压都是危害塑料薄膜薄厚匀称性关键要素。ITO 薄膜的制备方法很多,如喷涂、蒸发、射频溅射和磁控溅射等。随着液晶显示器技术向高精细化和大型化发展,磁控溅射法备受欢迎。

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我国真空镀膜机行业发展现状和前景分析

我国镀膜机械，经过了几十年发展，形成了门类齐全、布局合理，品种配套，真空镀膜技术水平与镀膜工业发展基本适应的体系，真空镀膜设备已经不能再叫新行业了，其是一个有创新能力的成熟行业，镀膜技术从重污染转为轻污染直至以后的无污染，创新是前提，随着更新型***节能环保的真空机械设备研发必将改变整个工业。中频交流磁控溅射在单个阴极靶系统中,与脉冲磁控溅射有同样的释放电荷、防止打弧作用。

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磁控溅射

磁控溅射法是在高真空充入适量的ya气，在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁) 之间施加几百K 直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使ya气发生电离。

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