磁控溅射镀膜机-北京创世威纳-磁控溅射镀膜机生产厂家

直流磁控溅射技术

为了解决阴极溅射的缺陷，人们在20世纪开发出了直流磁控溅射技术，它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的弱点，因而获得了迅速发展和广泛应用。其原理是：在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力，它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动，其运动路径变长，因而增加了与工作气体分子碰撞的次数，使等离子体密度增大，从而磁控溅射速率得到很大的提高，磁控溅射镀膜机，而且可以在较低的溅射电压和气压下工作，降低薄膜污染的倾向；另一方面也提高了入射到衬底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上改善薄膜的质量。同时，经过多次碰撞而丧失能量的电子到达阳极时，已变成低能电子，磁控溅射镀膜机厂家，从而不会使基片过热。因此磁控溅射法具有“高速”、“低温”的优点。该方法的缺点是不能制备绝缘体膜，而且磁控电极中采用的不均匀磁场会使靶材产生显著的不均匀刻蚀，导致靶材利用率低，一般仅为20%-30%。

以上内容由创世威纳为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助！

磁控溅射中靶zhong毒是怎么回事，一般的影响因素是什么？

以下内容由创世威纳为您提供服务，希望对同行业的朋友有所帮助。

靶zhong毒的物理解释

（1）一般情况下，金属化合物的二次电子发射系数比金属的高，磁控溅射镀膜机工作原理，靶zhong毒后，靶材表面都是金属化合物，在受到离子轰击之后，释放的二次电子数量增加，提高了空间的导通能力，降低了等离子体阻抗，导致溅射电压降低。从而降低了溅射速率。一般情况下磁控溅射的溅射电压在400V-600V之间，当发生靶zhong毒时，溅射电压会显著降低。（2）金属靶材与化合物靶材本来溅射速率就不一样，一般情况下金属的溅射系数要比化合物的溅射系数高，磁控溅射镀膜机生产厂家，所以靶zhong毒后溅射速率低。（3）反应溅射气体的溅射效率本来就比惰性气体的溅射效率低，所以反应气体比例增加后，综合溅射速率降低。

镀膜机***的重要性

大家都知道，镀膜机的运行状况会直接影响镀膜成品的质量，为了更好的运行，要对镀膜机进行维护和***，那么，那么知道真空镀膜机维护和***的意义吗？下面，小编给大家讲解一下它们的意义。设备的日常维护***是在生产中发现不正常现象，尽快解决。发现机械泵油减少要添加，不要认为油要定期才更换，否者到了维护时，泵的转子可能会磨损严重。例如，一些轴承工件转架卡，要更换轴承，否者等到它完全破碎，问题可就大了，可能会出现电机烧毁等问题。定期维护***，有些人会问一个日常维护和定期维护的区别？实际上，每个设备都有使用寿命，例如，扩散泵用的硅油，使用寿命为两年左右，我们提早更换，这是浪费吗？不是，在生产中不希望出现设备故障，把日常维护***和定期维护***都做好了，不仅延长了设备的使用寿命，还减少了运行故障，提高生产效率。

想要了解更多 磁控溅射镀膜机的相关信息，欢迎拨打图片上的***电话！