聚焦离子束刻蚀机品牌-聚焦离子束刻蚀机-北京创世威纳(查看)

离子束刻蚀机

离子束刻蚀机由真空室、工作台、快门、真空抽气系统、供气系统、水冷系统、电源和 电器系统等主要部分组成，图1-1所示为离子束刻蚀机的工作原理图。该机在正常工作 时，首先将真空室的压力抽至2×10-3Pa或更低，聚焦离子束刻蚀机供应商，再调节Ar气流量，使真空室压力保持 在1×10-2~2×10-2Pa(如需要辅助气体，如O2、CH2等，则可按一定比例与之混合)， 然后启动离子源各电源，使离子源正常工作，从离子源引出一定能量和密度的离子束 被中和器发射的电子中和后，轰击工件进行溅射刻蚀。

离子束刻蚀

离子束刻蚀也称为离子铣，是指当定向高能离子向固体靶撞击时，能量从入射离子转移到固体表面原子上，如果固体表面原子间结合能低于入射离子能量时，固体表面原子就会被移开或从表面上被除掉。通常离子束刻蚀所用的离子来自惰性气体。离子束较小直径约10nm，离子束刻蚀的结构较小可能不会小于10nm。目前聚焦离子束刻蚀的束斑可达100nm以下，少的达到10nm，获得较小线宽12nm的加工结果。相比电子与固体相互作用，离子在固体中的散射效应较小，并能以较快的直写速度进行小于50nm的刻蚀，故而聚焦离子束刻蚀是纳米加工的一种理想方法。此外聚焦离子束技术的另一优点是在计算机控制下的无掩膜注入，甚至无显影刻蚀，直接制造各种纳米器件结构。但是，在离子束加工过程中，损伤问题比较突出，且离子束加工精度还不容易控制，控制精度也不够高。

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离子束刻蚀以离子束为刻蚀手段达到刻蚀目的的技术，聚焦离子束刻蚀机，其分辨率限制于粒子进入基底以及离子能量耗尽过程的路径范围。离子束较小直径约10nm，离子束刻蚀的结构较小可能不会小于10nm。目前聚焦离子束刻蚀的束斑可达100nm以下，较以较快的直写速度进行小于50nm的刻蚀，故而聚焦离子束刻蚀是纳米加工的一种理想方法。此外聚焦离子束技术的另一优点是在计算机控制下的无掩膜注入，甚至无显影刻蚀，直接制造各种纳米器件结构。但是，在离子束加工过程中，损伤问题比较突出，聚焦离子束刻蚀机品牌，且离子束加工精度还不容易控制，控制精度也不够高。

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