磁控溅射台-创世威纳(推荐商家)

溅射镀膜机溅射镀技术优点

溅射镀膜机溅射镀技术应用 蒸发和磁控溅射两用立式装饰镀膜机，主要适用于塑料、陶瓷、玻璃金属材料表面镀制金属化装饰膜。由于镀膜室为立式容器，所以它具有卧式镀膜机的一切优点， 又利于自重较大的、易碎的镀件装卡，更可方便地实现自动生产线，是替代传统湿法水电镀的更为理想的新一代真空镀膜设备。本机镀部分产品可不做底油。本机主 要特点配用改进型高真空排气系统，抽速快、效率高、节电、降噪和延长泵使用寿命;实现蒸发、磁控溅射、自动控制，操作简单，工作可靠。

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真空镀膜机的未来发展策略

创世威纳***生产、销售真空镀膜机，我们为您分析该产品的以下信息。

1、目前实体经济走势整体疲弱，复苏充满不确定性，磁控溅射台，经济处于继续探底过程，真空镀膜设备制造企业应着力进行产业结构优化升级，重质量、重服务明确市场***，大力研发拥有自主知识产权的新产品新工艺，提高产品质量和服务水平。

2、依托信息化发展趋势，坚持“以信息化带动工业化，以工业化促进信息化”，走出一条科技含量高、经济效益好、资源消耗低、环境污染少、人力资源优势得到充分发挥的新型工业化路子。

3、依托***支持，大力加强与拥有行业***技术和工艺水平的科研院所、大型企业、高校合作，使得新品能迅速推向市场。

真空镀膜技术及设备拥有十分广阔的应用领域和发展前景。未来真空镀膜设备行业等制造业将以信息化融合为重1心，依靠技术进步，更加注重技术能力积累，制造偏向服务型，向世界真空镀膜设备行业等制造业价值链高1端挺进。

磁控溅射镀膜机工艺

关键工艺参数的优化

关键工艺参数的优化基于实验探索。实验是在自制的双室直流磁控溅射镀膜设备上进行的。该设备的镀膜室采用内腔尺寸为6700mm ×800mm ×2060mm的箱式形状，抽气系统采用两套K600 扩散泵机组，靶材采用德国Leybold 公司生产的陶瓷靶，ITO 薄膜基底是尺寸为1000mm ×500mm ×5mm 的普通浮法玻璃。

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